主要用途:
微电子产品生产用高纯水,半导体、显象管制造业用超纯水,集成电路板生产清洗用超纯水,蓄电池、锂电池、太阳能电池、干电池等生产用水。
工艺流程一:反渗透+混床
工艺流程二:反渗透+EDI设备
应用领域:
半导体村料、器件、印刷电路板和集成电路成品、半成品用超纯水、实验室和中试车间用超纯水、电子产品。
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